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LED專用機MOCVD全自動清洗機
◆可同時清洗Aixton(德)/Veeco(美)MOCVD零件。 ◆針對廠區內有多台MOCVD零件清洗設計。 ◆高溫蝕刻製程200°(去除有機金屬氧化物)。 ◆全自動機台操作安全、清洗效率最高、產能最大。
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LED專用機高溫磷酸蝕刻機.
◆製程溫度可達350°C ◆全自動供酸/補酸/精密配酸。 ◆環控流場式熱酸氣排放。 ◆提供陶瓷遠紅外線及薄膜式加熱選擇。 ◆線上補酸配比監控(option)。 ◆可選配PC Base。
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HOTN2Dry
◆適用2”~4”wafer/GaAs/Sapphire。 ◆加熱方式:間接式N2加熱純度高(無污染)。 ◆風量選擇:Sapphire(外延片):大風量 GaAs(外延片):小風量 製程監控:微風量 ◆吹風設計:有上吹及IR加熱烘乾選擇及側吹晶籃底部。 ◆浸泡IPA僅需3~5鐘乾燥。