高溫磷酸蝕刻製程機(全自動)
●Wet PSS (Pattern Sapphire Substrate)
●Sidewall Etch/ LBR
◆全自動供酸/補酸/精密配酸。
◆陶瓷遠紅外線加熱模組(可加熱至600°C)
◆環控流場式熱酸氣排放。
◆熱酸排再啟動製程2.5小時完成。
◆自動化機械手臂全程監控。
◆高溫排放閥選用德製EM-TECHNIK(保固兩年)。
●Wet PSS (Pattern Sapphire Substrate)
●Sidewall Etch/ LBR
◆全自動供酸/補酸/精密配酸。
◆陶瓷遠紅外線加熱模組(可加熱至600°C)
◆環控流場式熱酸氣排放。
◆熱酸排再啟動製程2.5小時完成。
◆自動化機械手臂全程監控。
◆高溫排放閥選用德製EM-TECHNIK(保固兩年)。