光譜式模厚量測儀
Ellipso Technology
Elli-RSc (Reflectometer)
光譜式反射儀
高速膜厚量測系統，1秒鐘內完成單點量測(依材料性質而異)。最高可量測3層薄膜(依材料性質而異)，厚度範圍10nm – 50mm(依材料性質而異)。配備顯微鏡系統，光點大小可調整，適用於半導體、OLED、高分子、太陽能…等相關研究及材料厚度檢測。
系統特性
光源波長範圍: 450nm – 900nm
光點大小: 50mm、30mm、10mm
量測層數: 最多3層(依材料性質而異)
量測厚度範圍: 10nm – 50mm (依材料性質而異)
再現性: ± 1 Å
載台尺寸: 140mm x 130mm
可加裝單波長雷射激發光源
應用:
OPTION
Thick film measurement system : thickness range 1.0 ~ 300 um (mFFT*)
Beam spot size : 4.0 um
Stage size : 200 x 200 mm^2, 300 x 300 mm^2 and others (ask for a customized stage size)
Auto focusing system : Color CCD camera
Anti-vibration table
Transmittance module
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