有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

◆適用2”~4”wafer/GaAs/Sapphire。 ◆加熱方式：間接式N2加熱純度高(無污染)。 ◆風量選擇：Sapphire(外延片)：大風量 GaAs(外延片)：小風量 製程監控：微風量 ◆吹風設計：有上吹及IR加熱烘乾選擇及側吹晶籃底部。 ◆浸泡IPA僅需3~5鐘乾燥。

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

有任何產品問題，歡迎來電03-5403878諮詢

◆製程溫度可達350°C ◆全自動供酸/補酸/精密配酸。 ◆環控流場式熱酸氣排放。 ◆提供陶瓷遠紅外線及薄膜式加熱選擇。 ◆線上補酸配比監控(option)。 ◆可選配PC Base。

◆可同時清洗Aixton(德)/Veeco(美)MOCVD零件。 ◆針對廠區內有多台MOCVD零件清洗設計。 ◆高溫蝕刻製程200°(去除有機金屬氧化物)。 ◆全自動機台操作安全、清洗效率最高、產能最大。

●Wet PSS (Pattern Sapphire Substrate) ●Sidewall Etch/ LBR ◆全自動供酸/補酸/精密配酸。 ◆陶瓷遠紅外線加熱模組(可加熱至600°C) ◆環控流場式熱酸氣排放。 ◆熱酸排再啟動製程2.5小時完成。 ◆自動化機械手臂全程監控。 ◆高溫排放閥選用德製EM-TECHNIK(保固兩年)。

◆DC伺服馬達 ◆轉速5000rpm±1rpm ◆加速度1000rpm/sec2 ◆定量精度±3%